1. T. Nakamoto, K. Matsuyama, M. Sakai, C.-T. Chen, Y.-L. Chueh, S. Mouri, T. Yoshimura, N. Fujimura, D. Kiriya, "Selective isolation of mono to quad layered 2D materials via sonication-assisted micromechanical exfoliation", ACS NANO, 2024, 18, 2455-2463.

(ChemRxiv, 2022, DOI: 10.26434/chemrxiv-2022-lgp8l )

1. 中本竜也, 桐谷乃輔, "超音波浴装置を用いたサブナノ厚半導体の効率的かつ選択的な調整手法", 超音波テクノ, vol. 37, pp. 40-44 (2025).

1. 優秀研究・発表賞, 第8回サイボウニクス研究会, 長岡, 2022年12月17日

2. 工学研究科長顕彰（大阪府立大学）, 2022年3月24日

1. 中本が次世代を拓く：2D半導体単層の超効率単離法, 第8回サイボウニクス研究会, 2022年12月（口頭発表）

2. 超音波印加による効率な単層2D半導体の孤立化, 応用物理学会関西支部75周年記念講演会, 2022年11月（ポスター発表）

3. 付随するバルクの基板離脱時に面内破断により単層が選択的に残留する現象への考察, 第83回応用物理学会秋季学術講演会, 2022年9月（口頭発表）

4. Sonication-Based Selective Removal of Mechanically-Exfoliated Bulk MX2 Flakes on the Substrate, 2021 MRS Fall Meeting & Exhibit (virtual), 2021, 11, 7 (Poster, virtual).

5. 有機溶媒内超音波印加による二次元層状物質の選択的薄層調整法の開拓, 大阪府大 研究推進機構・放射線研究センター共同利用報告会, 2021年11月（口頭発表, オンライン）

6. 2次元層状物質の超音波印加による薄層選別法のメカニズム考察, 第82回応用物理学会秋季学術講演会, 2021年9月（口頭発表, オンライン） 

7. ~1 nm厚の単層半導体の選択的な単離手法の開拓, 化学とマイクロ・ナノシステム学会 第43回研究会, 2021年5月 （ショートプレゼン、ポスター発表, オンライン）

8. 有機溶液内超音波印加による機械的剥離MoS2の薄層選別法の開拓, 第68回応用物理学会春季学術講演会, 2021年3月（口頭発表, オンライン）