1. T. Kobayashi, T. Dohi, C. Sato, D. Kiriya, "Propose an automated exfoliation process of MoS2 with a universal mechanical setup", Appl. Phys. Express, 2023, 16, 106502.

2. T. Nakahara†, T. Kobayashi†, T. Dohi, T. Yoshimura, N. Fujimura, D. Kiriya, "Spontaneous crystal fluctuation in hydrocarbon polymer–coated monolayer MoS2, MoSe2, WS2, and WSe2 with strong photoluminescence enhancement", ACS Photonics, 10, 3605-3611 († Equal contribution)

(ChemRxiv, 2023, DOI: 10.26434/chemrxiv-2023-gxzqw )

1. アミン系分子による縮退単層MoS2 MOSFETの安定性および接触抵抗の検討、第72回応用物理学会学術講演会、2025年3月（口頭発表）

2. ガス分子を用いた単層MoS2の表面修飾〜nm長トランジスタ応用を目指して〜, 第10回サイボウニクス研究会、2024年12月（ポスター発表）

3. アミノ系分子による2次元半導体へのドーピングと伝導挙動の考察, 学術変革領域研究B進化トロニクス, 2024年12月（ポスター発表）

4. アミン系分子の表面処理による単層MoS2の縮退伝導挙動, 第85回応用物理学会秋季学術講演会, 2024年9月（口頭発表）

5. ポリオキソメタレートとポリマーの被覆によるMoS2の高発光化、第71回応用物理学会学術講演会、2024年3月（口頭発表）

6. アニオン性分子を含んだポリマーの被覆による二次元半導体の超高発光化、第9回サイボウニクス研究会、2023年12月（ポスター発表）

7. ポリオキソメタレート接合によるMoS2の発光強度向上, 第84回応用物理学会秋季学術講演会, 2023年9月（ポスター発表）

8. 粘着テープの剥離現象とMoS2の転写に関する考察, 第一回「物質、デバイス、生命の融合」研究会, 2023年5月（ポスター発表）

9. 簡易剥離装置の作製とMoS2の転写率に関する考察, 第70回応用物理学会春季学術講演会, 2023年3月（口頭発表）

10. パラフィン被膜によるMoS2, WS2, MoSe2, WSe2の高発光化, 第70回応用物理学会春季学術講演会, 2023年3月（ポスター発表）

11. 蝋被膜が促す0.7 nm厚半導体の100倍高発光化現象, 第8回サイボウニクス研究会, 2022年12月（ポスター発表）